FO研磨粉2000目类似FUJIMI
FO研磨粉2000目类似FUJIMI
FO 研磨粉 2000 目是氧化铝氧化锆复合基精密抛光微粉，对标 FUJIMI 同类型复合抛光粉，专为光学元件、半导体衬底的中抛、精抛前置整平工序开发，是成熟的国产化替代耗材。
产品采用复合粉体配方，结合氧化铝稳定切削能力与氧化锆良好韧性、自锐效果，颗粒经过高温煅烧、精密气流分级、多级除杂处理，严控超大颗粒、铁钠等有害杂质，粒径分布窄，颗粒形貌均匀柔和。相比单一材质磨料，它在保证合理去除速率的同时，大幅降低划伤、麻点、亚表面损伤风险，抛光面均匀，面形可控，和 FUJIMI 粉体的抛光手感、浆料适配性接近。
2000 目粒度适合高精度光学镜头、棱镜、滤光片、蓝宝石窗口以及半导体光学元器件的精细研磨，多用于粗抛之后、终抛之前，消除前道研磨纹路，修正表面波纹度，为后续超精抛打好基础。适配各类光学玻璃、单晶基材，可配制成水性抛光浆料，适配球面、非球面抛光机、高速研磨设备。
粉体分散性**，浆料沉降速度适中，不易团聚结块，连续加工稳定性强，使用寿命长。每批次附带 COA 检测报告，粒度、纯度、抛光性能可稳定复现，可直接替换 FUJIMI 对应型号，帮助工厂在保障良率的前提下，降低进口耗材采购成本。
郑州市海旭磨料生产和供应的FO抛光粉产品参数如下：
化学成分/物理特性
产品类型 | 颗粒尺寸 | 比重(g/cm3) | 化学成分（%） | ||||
Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 | |||
FO | #240-#400 | ≥3.90 | ≥45.0 | ≤20.0 | ≤0.5 | ≤2.0 | ≤38.0 |
#500-#1200 | ≥3.90 | ≥45.0 | ≤20.0 | ≤0.5 | ≤2.0 | ≤33.0 | |
#1500-#4000 | ≥3.90 | ≥40.5 | ≤20.0 | ≤0.7 | ≤2.0 | ≤33.0 | |
粒度分布标准
粒度 | D0 | D3 | D50 | D94 |
#240 | ≤98.0 | ≤74.0 | 40.0±3.0 | ≥26.0 |
#280 | ≤86.0 | ≤66.0 | 34.0±2.5 | ≥21.0 |
#320 | ≤75.0 | ≤58.0 | 28.0±2.3 | ≥17.0 |
#400 | ≤63.0 | ≤50.0 | 23.0±2.1 | ≥14.0 |
#500 | ≤53.0 | ≤43.0 | 19.0±1.6 | ≥12.0 |
#600 | ≤45.0 | ≤37.0 | 16.0±1.3 | ≥10.0 |
#700 | ≤38.0 | ≤31.0 | 13.5±1.1 | ≥8.0 |
#800 | ≤32.0 | ≤27.0 | 11.3±0.9 | ≥6.5 |
#1000 | ≤27.0 | ≤23.0 | 9.4±0.8 | ≥5.0 |
#1200 | ≤23.0 | ≤20.0 | 7.1±0.7 | ≥4.0 |
#1500 | ≤19.0 | ≤17.0 | 5.5±0.5 | ≥3.0 |
#2000 | ≤15.0 | ≤14.0 | 4.5±0.4 | ≥2.0 |
#3000 | ≤12.0 | ≤11.0 | 3.6±0.4 | ≥1.5 |
#4000 | ≤10.0 | ≤8.0 | 2.7±0.4 | ≥1.3 |
主要用途
--半导体晶片晶圆的研磨抛光
--各类光学玻璃的表面精加工
--光学晶体的透镜，棱镜，面镜，滤镜等研磨抛光
--压电材料的表面精加工
